Höchste Effizienz für die Wafer Reinigung, Oberflächenaktivierung und zur Ozonerzeugung.
 
Die einzigartigen XERADEX Xenon Excimer Strahler von Osram eröffnen dem Anwender neuartige Möglichkeiten in der Prozesstechnik für die Behandlung von sehr anspruchsvollen Oberflächen. Der patentierte Pulsbetrieb führt zu einer vierfachen Strahlungsausbeute im Vergleich zu konventionell betriebenen Excimerstrahlern. Dadurch werden 40 Prozent der eingekoppelten Energie in verwertbare Ultraviolettstrahlung umgewandelt, womit eine zusätzliche Kühlung entfällt. Ihre hohe Effizienz und Kompaktheit ist ideal für die den flexiblen Einsatz in vielen anspruchsvollen Anwendungen wie Oberflächenbehandlung von Glasscheiben und Wafern, Ozonerzeugung, Lacktrocknung, Reinstwassererzeugung und vielen anderen.
 
Der enorme Vorteil der XERADEX Strahler rührt von der patentierten Betriebsweise in Pulstechnologie in Verbindung mit dem innovativen Lampendesign her. Eine der beiden Elektroden wird außen auf dem Strahler angebracht. Dabei wirkt der Quarzkolben als Barriere, die eine Bogenbildung während der Entladung verhindert. Wenn Xenon als Füllgas benutzt wird - wie das bei den XERADEX Strahlern der Fall ist - und eine Pulsspannung über ein spezielles Vorschaltgerät eingekoppelt wird, werden metastabile Xenon Excimermoleküle (Xe2*) gebildet, die beim Zerfall die charackteristische VUV-Strahlung bei 172 nm emittieren. Die XERADEX Strahler emittieren inkohärente VUV-Strahlung.
 
Aufgrund der außergewöhnlichen Effizienz der Systeme kann auf eine externe Kühlung verzichtet werden, da die Temperatur der Strahler nicht über 80°C steigt. Somit sind kompakte und flexible Systeme möglich, die die Integration der XERADEX Strahler in die fortschrittlichsten Produktionssysteme ermöglicht.
  
 

Anwendungsfelder
 
Oberflächenaktivierung und -modifizierung

• Entfernung von Polymeren:
  
  • Entfernen von organischen Rückständen auf Glas, Silizium u.a. Substraten
  • Reinigung von Photomasken
  • Verbesserung der Beschichtungseigenschaften
  • Erhöhung der Beschichtungsausbeute
  • Entfernung von Photolack
  • Ätzen chemisch resistenter Stoffe (z.B. von Teflon)
• Oberflächenbehandlung:
  
  • Aktivierung der Oberflächenbindungen
  • Änderung des Benetzungswinkels auf Glas, Silizium
  • Höhere Beschichtungsausbeute auf Glas, Silizium
  • Bessere Bondergebnisse
  • Schnelleres und besseres Vakuum in Prozesskammern
• für die UV/Ozon Reinigung wird kein externer Ozonerzeuger benötigt
• Photo-induzierte Metallisierung bei Raumtemperatur auf verschiedenen Oberflächen, z.B. Kunststoffen
• Photo-induzierte CVD-Prozesse bei kleineren Prozesstemperaturen (high k-deposition, hohe Aufwachsgeschwindigkeiten, geringe Temperaturen)
• Mattierung von Lacken: Mikrofaltung von strahlungshärtentenden Lackschichten zur Erzeugung matter Oberflächen

Ozonerzeugung

• Direkte Dissoziation von Sauerstoff durch hochenergetische XERADEX Strahlung und Erzeugung von Ozon: keine Nebenprodukte wie z.B. NOx
• Hocheffiziente Ozonerzeugung mit den XERADEX Strahlern: Ozonausbeuten von über 80 g/kWh
• keine Kühlung notwendig
• In-situ Erzeugung von Ozon

Wasserreinigung und Erzeugung von ultrareinem Wasser

• Effiziente Erzeugung von reaktiven -OH Radikalen
• komplette Mineralisierung von organischen Komponenten
• Erzeugung von Reinstwasser

Andere Anwendungsfelder

• Evaluierung von Leuchtstoffsubstanzen für Plasma Displays
• Photochemische Experimente

Vorteile

Die einzigartigen Vorteile der kompakten XERADEX Systeme auf einen Blick:

• zum ersten Mal ist eine wirklich hocheffiziente VUV Strahlungsquelle für verschiedene anspruchsvolle industrielle Anwendungen erhältlich
• die 40 prozentige Effizienz vermeidet die Notwendigkeit der Kühlung - die Temperatur des Strahlers bleibt unter 80°C - "kalte Strahlung"; dadurch sind Niedrigtemperaturprozesse möglich
• Das System Strahler- Elektronisches Vorschaltgerät ist sehr kompakt und leicht handhabbar
• Einfache, kompakte Bestrahlungssysteme sind möglich und minimieren den Platzbedarf in kostenintensiven Reinraumumgebungen
• Die Strahler starten sofort ohne Aufwärmphase; Die Zündung ist unabhäng von der Umgebungstemperatur; Shutter sind nicht notwendig
• keine Beschränkung auf Schaltzyklen; sofortige Wiederzündung ohne zusätzliche Alterung des Strahlers
• PLC Ausgang
• Betrieb des Strahler unter verschiedenen Umgebungsbedingungen ist möglich, z.B . bei verschiedenen Prozessgasen und unter Vakuum.
• Der Strahler ist umweltfreundlich, da nur Edelgase enthalten sind und kein Quecksilber verwendet wird.